非零色散位移單模光纖(ITu—G.655)是1994年美圍朗訊公司和康寧公司專門為新一代帶有光纖放大器的波分復用傳輸系統設計和制造的新型光纖。這種光纖是在色散位移單模光纖的基礎上通過改變折射剖面結構的方法來使得光纖在l 550nm，波長處的色散不為零，故被稱為非零色散位移單模光纖。
非零色散位移單模光纖的基本設計思想是在1550nm波長區域內具有合理的低色散，足以支持10Gbit/s的長距離傳輸而無需色散補償;同時，其色散值又必須保持非零特性來抑制四波混頻和交叉相位調制等非線性效應的影響，以求同時滿足開通時分復用和密集波分復用系統的需要。為此，人們在研發出了第一代非零色散位移單模光纖的基礎上，又陸續開發出第二代產品，如低色散斜率非零色散位移單模光纖、大有效面積非零色散位移單模光纖和色散平坦型非零色散位移單模光纖。三種G.655光纖色散斜率的比較如圖所示。
為使非零色散位移單模光纖在1550nm附近工作波長區呈現出非零色散特性，通過改變光纖折射率剖面形狀，即通過改變其波導色散的方式來使得零色散點移向短波長側或K波長側，進而制造出正色散非零色散位移單模光纖和負色散非零色散位移單模光纖。
在兩種不同零色散點偏移方向的c 655光纖中，具有正色散的G.655光纖的主要優點是可以利用色散補償其一階和二階色散。另外，在1550nm波長附近色散為正，有可能與r。生負啁啾的MZ外調制器結合，利用自相位調制技術來擴大色散受限傳輸距離乃至實現光孤子傳輸。它的主要缺點是可能產生所謂的凋制不穩定性.
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